1. 數(shù)碼曝光機(jī)

謝謝邀請(qǐng)

照片曝光過度應(yīng)該是測(cè)光出現(xiàn)問題，目前的相機(jī)都具有測(cè)光功能，只是有的相機(jī)只有中心測(cè)光，有的可以隨著對(duì)焦點(diǎn)測(cè)光。

其次是測(cè)光模式選擇，相機(jī)一般有評(píng)價(jià)測(cè)光，局部測(cè)光，中心點(diǎn)測(cè)光等模式。

拍攝不同的題材要選用不同的模式，一般拍攝風(fēng)光用平均測(cè)光.，相機(jī)會(huì)根據(jù)場(chǎng)景，給出整體平均值，拍攝弱光，要用點(diǎn)測(cè)光，相機(jī)會(huì)把你需要的點(diǎn)的曝光量，提供給你。

根據(jù)相機(jī)的測(cè)光值，試拍一張，如果天空曝光過度，適當(dāng)?shù)臏p少曝光值就可以了。

我是攝影師老木，有其他問題請(qǐng)?jiān)谠u(píng)論區(qū)留言

2. 網(wǎng)版曝光機(jī)

30－60秒，

21將底片菲林藥膜面貼在絲網(wǎng)的印刷面（凸面），然后放在真空曝光機(jī)內(nèi)曝光。曝光時(shí)間根據(jù)感光膠的厚度及曝光燈的能量及所制網(wǎng)版的要求（一般線路、阻焊、字符，網(wǎng)版所要求曝光時(shí)間不同）而定，一般在使用前要借助曝光計(jì)算尺來測(cè)定曝光時(shí)間，然后再固定所制網(wǎng)版的曝光時(shí)間。

3. 曝光機(jī)品牌

光刻機(jī)是運(yùn)用高新科技將時(shí)光固定至某個(gè)固定階段的刻錄機(jī)，現(xiàn)在最好的是武漢華中科技大學(xué)和中科院光學(xué)研究院聯(lián)合生產(chǎn)的永恒牌003型光刻機(jī)。具有穩(wěn)定高效、無殘影、瞬時(shí)刻錄、人物高保真保留時(shí)效長(zhǎng)、瞬時(shí)解封等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)解析并復(fù)制DNA，刻錄時(shí)光損毀時(shí)自動(dòng)生成刻錄景物實(shí)體。同時(shí)其具備5D打印功能，可實(shí)現(xiàn)于人腦無延時(shí)連接，可以運(yùn)用光線實(shí)現(xiàn)紋身、祛斑、嫩膚?，F(xiàn)在最低價(jià)格500萬(wàn)你要不要來一臺(tái)？

4. 液晶曝光機(jī)

(讓狗把它咬壞就不是人為的咯)頂?。?！

試一試這個(gè)方法：用一塊大磁鐵粘住顯示器讓它澈底爆光。

還有第二個(gè)方法：找個(gè)升壓器，把電壓升到最高讓它澈底燒毀。

5. 手動(dòng)曝光機(jī)

曝光是指將感光板置于曬版機(jī)工作臺(tái)上，放好底片，通過曝光 獲得一種潛在或可見圖像的過程。曝光是一切光化學(xué)成像方法的基本過程與主要特征。

曝光，曝光模式即計(jì)算機(jī)采用自然光源的模式，通常分為多種，手動(dòng)曝光、自動(dòng)曝光等模式。照片的好壞與曝光有關(guān)，也就是說應(yīng)該通多少的光線使感光元件能夠得到清晰的圖像。曝光量由通光時(shí)間（快門速度決定），通光面積（光圈大小）決定。

而曝光補(bǔ)償是一種曝光控制方式，一般常見在±2-3EV左右，如果環(huán)境光源偏暗，即可增加曝光值(如調(diào)整為+1EV、+2EV)以突顯畫面的清晰度。曝光補(bǔ)償就是有意識(shí)地變更相機(jī)自動(dòng)演算出的“合適”曝光參數(shù)，讓照片更明亮或者更昏暗的拍攝手法。拍攝者可以根據(jù)自己的想法調(diào)節(jié)照片的明暗程度，創(chuàng)造出獨(dú)特的視覺效果等。一般來說相機(jī)會(huì)變更光圈值或者快門速度來進(jìn)行曝光值的調(diào)節(jié)。

6. 曝光機(jī)廠商

1947年12月，大名鼎鼎的美國(guó)貝爾實(shí)驗(yàn)室的肖克利（“晶體管之父”）、巴丁和布拉頓共同研制出了一種點(diǎn)接觸型的鍺晶體管?。ㄈ艘虼双@得了1956年的諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)）

自此以后，光刻技術(shù)才有了發(fā)展的契機(jī)！

……

1958年，德州儀器的杰克·基爾比（集成電路的兩位發(fā)明人之一）提出并發(fā)明了鍺基底擴(kuò)散工藝的集成電路?。?000年，杰克·基爾比因集成電路的發(fā)明被授予諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)，這是一個(gè)“遲到”了42年的諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)）

如果沒有杰克·基爾比，就很難有如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)盛況，電腦、手機(jī)等電子產(chǎn)品不知道牛年馬月才能進(jìn)入每一個(gè)家庭！

1959年，仙童半導(dǎo)體的羅伯特·諾伊斯（英特爾創(chuàng)始人之一）發(fā)明了硅基底平面工藝的集成電路！

由于硅集成電路變成了集成電路市場(chǎng)的主流，羅伯特·諾伊斯與杰克·基爾比，一起被譽(yù)為“集成電路之父”！

……

1956年，美國(guó)貝爾實(shí)驗(yàn)室用晶體管代替電子管，制成了世界上第一臺(tái)全晶體管計(jì)算機(jī)！

隨后，仙童半導(dǎo)體研制出了世界上第一個(gè)適用單結(jié)構(gòu)硅晶片。

20世紀(jì)60年代，仙童半導(dǎo)體提出了CMOS IC（集成電路）制造工藝；

IBM研制出了第一臺(tái)IC（集成電路）計(jì)算機(jī)IBM360；

美國(guó)GCA公司（美國(guó)地球物理學(xué)公司）開發(fā)出了光學(xué)圖形發(fā)生器和分布重復(fù)精縮機(jī)！

……

20世紀(jì)70年代，GCA開發(fā)出第一臺(tái)分布重復(fù)投影曝光機(jī)（光刻機(jī)）！

20世紀(jì)80年代，SVGL（美國(guó)硅谷集團(tuán)光刻系統(tǒng)公司）開發(fā)出了第一代步進(jìn)掃描投影曝光機(jī)（光刻機(jī)）！

1995年，日本佳能Cano研制出了300mm晶圓曝光機(jī)（光刻機(jī)）！

隨后，阿斯麥ASML推出步進(jìn)掃描曝光機(jī)（光刻機(jī)），采用的是193nm的波長(zhǎng)！

2012年，為了推進(jìn)EUV極紫外光刻機(jī)等先進(jìn)設(shè)備的研制，阿斯麥ASML推出了“客戶聯(lián)合投資專案”，英特爾、臺(tái)積電、三星成為了股東，分別持有15%、5%、3%左右的股權(quán)！